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Objetivos de esputo para recubrimiento

Objetivo redondo de titanio Gr2 para revestimiento de PVD

Lugar de origen : Shaanxi, China (continental)
Marca : YUNCH
tamaño normal : diámetro30 ~ 2000mm
Aplicación : industria pvd procesamiento / coting / semiconductor
Material : Titanio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensiones : como personalizado
Composición química : Metal
polvo o no : no poder
Palabra clave : objetivo de pulverización catódica para el recubrimiento de vacío
Técnica : forjar, moler, brillante
color : Metálico
Pureza : 2N8 ~ 5N
Certificación : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : objetivo de sputtering, objetivo redondo,
Tolerancia de la parte : ± 0.05
Ra : 1.6-6.3
Inspección : examen ultrasónico, prueba de presión de agua.
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Objetivo de pulverización de metal puro alto

Aluminio

Alabama

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 6N

Chronium

Cr

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N ~ 3N5

Platino

Pt

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Níquel

Ni

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Cobalto

Co

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 4N

Circonio

Zr

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N2 ~ 4N

Titanio

Ti

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Cobre

Cu

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Molibdeno

Mes

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 4N

Niobio

Nótese bien

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Tatalum

Ejército de reserva

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N5

Tungsteno

W

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Hafnio

Hf

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N

Vanadio

V

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N5 ~ 3N


Control de calidad

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