Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd
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Utilizar el objetivo en el proceso de la galjanoplastia del vacío

Nuevo tipo de equipo de sputtering casi todo uso imanes de gran alcance se espiral en movimiento para acelerar la ionización del electrón de argón alrededor del objetivo, aumentar la probabilidad de impacto de destino con iones de argón,

Aumentar la tarifa de la farfulla. La mayor parte de la capa de metal es depositado por sputtering DC, mientras que el material cerámico no conductora se utiliza para CA RF sputtering. El principio básico es usar la descarga del resplandor en el vacío.

(descarga del resplandor) (Ar) argón ión bombardeo objetivo (target) cación eléctrica superficie plasma se acelera hacia la superficie por pulverización como el material del electrodo negativo, el impacto será

El material blanco voló y depositados en el sustrato para formar una película delgada.


En términos generales, existen varias características de la capa de película delgada por proceso de la farfulla:


(1) metal, aleación o materiales aislantes es posible en los materiales de película delgada.

(2) las condiciones adecuadas pueden dirigirse a complejos para producir películas delgadas con la misma composición.

(3) añadiendo el oxígeno activo u otra descarga del gas en la atmósfera, o una mezcla de compuestos puede hacer las moléculas de gas y material de destino.

(4) el entrada actual y farfulla tiempo puede ser controlada, fácil obtener el espesor de la película con alta precisión.

(5) en comparación con otros procesos de fabricación, la producción de películas uniforme con área grande es más favorable.

(6) unas pocas partículas de pulverización no se ven afectadas por la gravedad, el destino y la posición del sustrato se pueden disponerse libremente.

(7) la fuerza de adhesión entre el sustrato y la película es 10 veces mayor que el de la capa de deposición de vapor general, y debido a la alta energía de las partículas de la pulverización, la superficie de la película seguirá siendo dura y densa.

Delgada película, y al mismo tiempo, la alta energía puede obtenerse como puede obtenerse la temperatura más baja del sustrato.

(8) delgada película formando la densidad de carga inicial es alta, pero muy delgada película continua producción de 10nm siguientes.

(9) el objetivo de larga vida, tiempo de Automatomatización de la producción continua.

(10) material objetivo puede hacerse en varias formas, con máquinas especiales diseñadas para mejorar el control y la más eficiente.


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