Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd
Objetivos de esputo para recubrimiento

Objetivo de molibdeno objetivo planar de Moly

Lugar de origen : Shaanxi, China (continental)
Marca : YUNCH
tamaño normal : espesor≥10mm
tamaño normal : width≤500mm
tamaño normal : length≤1500mm
Aplicación : industria pvd procesamiento / coting / semiconductor
Forma : redondo, placa, tubo
Material : Titanio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensiones : como personalizado
Composición química : Metal
polvo o no : no poder
Palabra clave : objetivo de pulverización catódica para el recubrimiento de vacío
Técnica : forjar, moler, brillante
color : Metálico
Pureza : 2N8-5N
Certificación : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : objetivo de sputtering, objetivo redondo,
Tolerancia de la parte : ± 0.05
Ra : 1.6-6.3
Inspección : examen ultrasónico, prueba de presión de agua.

Products Specifications:


3.3.png

Descripción del producto

Nombre del árticulo

objetivos de molibdeno

Pureza

99.99% ~ 99.995%

Forma

Objetivo redondo / de acuerdo a su solicitud

Talla disponible

1. & Oslash; 30-2000 mm, espesor de 3,0 mm a 300 mm

2.Plate Targe: Longitud: 200-500mm Ancho: 100-230mm Espesor: 3--40mm

3. Customized está disponible

Certificados

ISO9001: 2008, SGS, el tercer informe de prueba

Técnica

Forjado y CNC mecanizado

Superficie

Superficie del torno CNC.

Solicitud

1. galvanoplastia;
2. Ingeniería química y tecnología petroquímica;
3. Médico


Nombre del producto objetivo de molibdeno
Origen ciudad de Baoji, provincia de Shaanxi, China
forma plato objetivo
Contenido de titanio & ge; 99.8 (%)
Contenido de impureza <0.02>
Densidad 4.51 o 4.50
Plato blanco 60/80/120 (W) & times; 6/8/12 (T) & times; 519/525/620 (L) & 60-800 (W) & times; 6-40 (T) & times; 600-2000 (L)
Objetivo de tubo 0.1-30.0mm (WT) * 3-350mm (OD) * 50-15000mm
Solicitud

Separación de semiconductores, materiales de revestimiento de película, Recubrimiento de electrodo de almacenamiento, Recubrimiento de pulverización, Recubrimiento de superficie, Industria de revestimiento de vidrio.


Objetivo de pulverización de metal puro alto

Aluminio

Alabama

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 6N

Chronium

Cr

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N ~ 3N5

Titanio

Ti

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Indio

En

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Germanio

Ge

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 6N

Silicio

Si

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 6N

Cobre

Cu

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Molibdeno

Mes

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 4N

Niobio

Nótese bien

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Tatalum

Ejército de reserva

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N5

Tungsteno

W

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Hafnio

Hf

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N

Vanadio

V

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N5 ~ 3N

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