Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd
Objetivos de esputo para recubrimiento

precio de alta calidad de la placa de la hoja de la aleación del zirconio del niobio del Nb-Zr10%

Lugar de origen : Shaanxi, China (continental)
Marca : YUNCH
materiales Nb-Zr10%
grosor de tamaño normal≥10mm
tamaño normal width≤500mm
tamaño normal length≤1500mm
Aplicación : industria pvd procesamiento / coting / semiconductor
vidrio de baja emisividad, células fotovoltaicas, dispositivos electrónicos y decoración
Forma : redondo, placa, tubo
Material : Titanio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensiones : como personalizado
Composición química : Metal
polvo o no : no poder
Palabra clave : objetivo de pulverización catódica para el recubrimiento de vacío
Técnica : forjar, moler, brillante
Color : Metálico
Pureza : 2N8-5N
Certificación : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : objetivo de sputtering, objetivo redondo,
Tolerancia de la parte : ± 0.05
Ra : 1.6-6.3
Inspección : examen ultrasónico, prueba de presión de agua.

Chatear ahora
Products Specifications:


Nb-Zr.1.png

anb.png

Descripción del producto

Nombre del árticulo

Nbzr planartargets

Forma

objetivo planar / de acuerdo a su solicitud

Talla disponible

1. & Oslash; 30-2000 mm, espesor de 3,0 mm a 300 mm

2.Plate Targe: Longitud: 200-500mm Ancho: 100-230mm Espesor: 3--40mm

3. Customized está disponible

Certificados

ISO9001: 2008, SGS, el tercer informe de prueba

Técnica

Forjado y CNC mecanizado

Superficie

Superficie del torno CNC.

Solicitud

1. galvanoplastia;
2. Ingeniería química y tecnología petroquímica;
3. Médico

Nombre del producto Nb Zirconium 10% objetivo
Grado ZR702 / ZR705
Origen ciudad de Baoji, provincia de Shaanxi, China
forma objetivos de placa
Grado ZR702 / ZR705
Plato blanco 60/80/120 (W) & times; 6/8/12 (T) & times; 519/525/620 (L) & 60-800 (W) & times; 6-40 (T) & times; 600-2000 (L)
Solicitud

Separación de semiconductores, materiales de revestimiento de película, Recubrimiento de electrodo de almacenamiento, Recubrimiento de pulverización, Recubrimiento de superficie, Industria de revestimiento de vidrio.


Objetivo de pulverización de metal puro alto

Aluminio

Alabama

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 6N

Chronium

Cr

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N ~ 3N5

Circonio

Zr

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N2 ~ 4N

Titanio

Ti

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N ~ 5N

Molibdeno

Mes

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N ~ 4N

Niobio

Nótese bien

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Tatalum

Ejército de reserva

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

4N5

Tungsteno

W

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N5

Hafnio

Hf

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

3N

Vanadio

V

pellet, redondo, planar, objetivo giratorio

2N5 ~ 3N

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