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Tecnología PACVD

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PACVD es una abreviatura de deposición de vapor químico asistida por plasma.


¿Qué es tecnología PACVD?


PACVD es una abreviatura de deposición de vapor químico asistida por plasma. A veces escribir PECVD, E está parada para mayor significado. En el proceso PVD, el material de recubrimiento se obtiene de la forma sólida de evaporación; mientras que en el proceso PACVD, el revestimiento se obtiene de la forma de gas. Gas, como HMDSO (seis metil éter silílico dos) en el plasma, agrietamiento ocurrió unos 200 grados C. no reaccionar los gases, como argón, puede ser depositados sobre la superficie de la pieza de trabajo y formar una capa delgada. Diamante como la capa de carbón (DLC) es un buen ejemplo de tecnología PACVD, que se utiliza generalmente en el campo de la tribología y la industria automotriz.


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