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La tecnología Material nuevo Ministerio de ciencia y tecnología de aplicación de proyecto de destino de Ultra alta aluminio puro

Source: El Ministerio de ciencia y tecnología nuevas tecnologías materiales de ultra alta aluminio puro objetivo de aplicación de proyectos


Según el Ministerio de ciencia y tecnología noticias: deposición física de vapor (PVD) es una de la tecnología dominante de la viruta del semiconductor y proceso de producción de TFT-LCD, PVD metal blanco de sputtering es uno de los más importante producción de la viruta del semiconductor y la preparación de TFT-LCD durante el procesamiento de materias primas, la cantidad de blanco de sputtering metal es el mayor objetivo de aleación de aluminio puro aluminio puro super alta y super alta.


Así, la tecnología de fabricación principales de gran tamaño con derechos de propiedad intelectual independiente del objetivo ultra alta aluminio puro, desarrollar la industria de los semiconductores y la demanda de industria de TFT-LCD de ultra alta aluminio puro destino productos, tiene un significado importante para el desarrollo de industrias relacionadas en china.


Justo, justo y abierto de selección de la unidad del proyecto, movilizar plenamente el entusiasmo de las empresas, institutos de investigación científica y universidades, la integración nacional en refinación de aluminio, procesamiento de deformación de placa de aluminio de gran tamaño y farfulla preparación de metal blanco y otras ventajas en el campo profesional R YAMP; Desarrollo D el trabajo de este proyecto, el Ministerio emitió un andquot; el nacional alta tecnología investigación y desarrollo (programa 863) nuevo material technologyandquot; destino de ultra alta aluminio puro de gran tamaño fabricación tecnología clave del proyecto andquot; guía de aplicación.


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